Список монографий

1. Vasilyev V. Y. CVD technologies and basic properties of SiNH-contained thin films for applications in electronic devices / V. Y. Vasilyev. – Text : direct // Chemical Vapor Deposition (CVD): Methods and Technologies. - [S. l.] : NOVA Science Publ., 2021. - Chap. 1. - P. 1-103. - (Chemical Engineering Methods and Technology). - ISBN 978-1-53619-949-9.
Персональные сайты авторов: Васильев В. Ю.
Проверено библиотекой

2. Vasilyev V. Y. Ruthenium thin film growth kinetics under thermally-activated pulsed chemical vapor deposition conditions. Chap. 3. / V. Y. Vasilyev // Advances in Chemistry Research. - New York : Nova Science Publishers, Inc., 2017. - Vol. 39. - P. 109-140. - ISBN 978-1-53612-613-6.
Персональные сайты авторов: Васильев В. Ю.
Проверено библиотекой

3. Vasilyev V. Y. Application of ozone for pulsed chemical vapor deposition and atomic layer deposition of thin films used in integrated circuit technology / V. Y. Vasilyev // Advances in Chemistry Research. - New-York : Nova Science Publishers, 2015. - Vol. 27. - P. 63-88. - ISBN 978-1-63482-545-0.
Персональные сайты авторов: Васильев В. Ю.
Проверено библиотекой

4. Vasilyev V. Y. Thin film chemical vapor deposition in electronics: equipment, methodology and thin film growth experience : [monograph] / V. Y. Vasilyev. - New York : Nova Science Publ., 2014. - 314 p - (Materials science and technologies). - ISBN 978-1633211506.
Персональные сайты авторов: Васильев В. Ю.
Проверено библиотекой

5. Васильев В. Ю. Глава 1. Анализ информационных материалов и образцов модульных источников электропитания / В. Ю. Васильев, А. А. Антонов, И. В. Пичугин // Источники вторичного электропитания с «мягкой» коммутацией силовых ключей / под общ. ред. Ю.Д. Козляева : монография. - Новосибирск : СО РАН, 2014. - C. 10 - 21.
Персональные сайты авторов: Васильев В. Ю.
Проверено библиотекой

6. Васильев В. Ю. Глава 3. Разработка макета мощного источника электропитания / В. Ю. Васильев, А. А. Антонов, И. В. Пичугин // Источники вторичного электропитания с «мягкой» коммутацией силовых ключей / под общ. ред. Ю.Д. Козляева : монография. - Новосибирск : СО РАН, 2014. - C. 34-46.
Персональные сайты авторов: Васильев В. Ю.
Проверено библиотекой

7. Глава 6. Экспериментальное исследование макетов драйверов «мягкой» коммутации ключей для мощных источников и систем вторичного электропитания / А. А. Антонов, И. В. Пичугин, Ю. Д. Козляев, Ю. Е. Семёнов, В. Ю. Васильев // Источники вторичного электропитания с «мягкой» коммутацией силовых ключей / под общ. ред. Ю.Д. Козляева : монография. - Новосибирск : СО РАН, 2014. - C. 73-87.
Персональные сайты авторов: Васильев В. Ю.
Проверено библиотекой

8. Vasilyev V. Y. Application of nitrous oxide for chemical vapor deposition of thin films used in integrated circuit technology / V. Y. Vasilyev // Advances in chemistry research. - New York : Nova Science Publishers, Inc., 2013. - Vol.19. - P. 55-84. - ISBN 978-1-62618-237-0.
Персональные сайты авторов: Васильев В. Ю.
Проверено библиотекой

9. Vasilyev V. Y. Borophosphosilicate glass thin films in electronics : monograph / V. Y. Vasilyev. - New York : Nova Science Publ., 2013. - 243 p - (Materials science and technologies: electronics and telecommunications research).
Персональные сайты авторов: Васильев В. Ю.
Проверено библиотекой

10. Vasilyev V. Y. Chapter 1. Pulsed Chemical Vapor Deposition of Ruthenium Thin Films Using Carbonyl-Diene Precursor / V. Y. Vasilyev // Ruthenium: Properties, Production and Applications. : monograph. - New York : Nova Science Publisher, Inc., 2011. - P. 1-84. - ( Chemical Engineering Methods and Technology and Materials Science and Technologies). - ISBN 978-1-61761-550-4.
Персональные сайты авторов: Васильев В. Ю.
Не подлежит проверке библиотекой